快速退火爐操作便捷，電熱元件采用紅外燈管，升溫速度快，節(jié)省時間，滑動法蘭使裝卸樣品過程簡化，方便操作，可快速得到實驗結果，取消了反復的法蘭安裝過程，減少了爐管因安裝造成的損壞。其設備一般都是以碘鎢燈管為發(fā)熱元件，升溫速度極快，采用S型熱電偶測溫并采用先進的模糊PID控制，具有很高的控溫精度<±5℃>，快速退火爐 具有真空裝置，可在多種氣氛下工作。大大提高了其使用范圍。標準配件需：高溫手套1付，熱電偶1根，石英管1根，真空法蘭1套。可選配件：氧化鋁坩堝，石 英坩堝，真空泵。

 

　　快速退火爐操作便捷，電熱元件采用紅外燈管，升溫速度快，節(jié)省時間，滑動法蘭使裝卸樣品過程簡化，方便操作，可快速得到實驗結果，取消了反復的法蘭安裝過程，減少了爐管因安裝造成的損壞。

　　產(chǎn)品用途：

　　此款CVD生長系統(tǒng)適用于CVD工藝，如碳化硅鍍膜、陶瓷基片導電率測試、ZnO納米結構的可控生長、陶瓷電容（MLCC）氣氛燒結等實驗。

　　

　　產(chǎn)品組成配置：

　　1、1200度開啟式真空管式爐；

　　2、多路質(zhì)量流量控制系統(tǒng)；

　　3、真空系統(tǒng)（可選配中真空或高真空）。

　　

　　產(chǎn)品特點：

　　1 控制電路選用模糊PID程控技術，該技術控溫精度高，熱慣性小，溫度不過沖，性能可靠，操作簡單；

　　2 氣路快速連接法蘭結構采用本公司*的知識產(chǎn)權設計，提高操作便捷性；

　　3 中真空系統(tǒng)具有真空度上下限自動控制功能，高真空系統(tǒng)采用高壓強，耐沖擊分子泵。